等離子清洗機需要什么耗材?
更新時間:2022-08-29 點擊次數:1020
等離子清洗機(plasma cleaner)也叫等離子清潔機,或者等離子表面處理儀,是一種全新的高科技技術,利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態,也叫做物質的第四態,并不屬于常見的固液氣三態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、原子、活性基團、激發態的核素(亞穩態)、光子等。等離子清潔機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面,從而實現清潔、涂覆等目的。
等離子清洗機用的耗材跟傳統清洗機不同,該清洗機是干法清洗,常用的工藝氣體有氧氣 (Oxygen, O2)、氬氣 (Argon, Ar)、氮氣 (Nitrogen, N2)、壓縮空氣 (Compressed Air, CDA)、二氧化碳 (Carbon, CO2)、氫氣(hydrogen, H2)、四氟化碳(Carbon tetrafluoride, CF4)。
總體來說,傳統清洗方法,盡管看起來便宜,但需要耗費大量的能源和環境為代價。這種方法的干燥過程非常緩慢,還需要消耗大量的能源。等離子體清洗技術消除了采用濕化學方法清洗中存在的各種危險,在清洗過程中也沒有廢液產生,傳統清洗技術中所使用的化學試劑會對環境造成很大的危害,等離子體輔助清洗是一種能有效替代化學清洗的技術,是一種環境友好型的清洗技術,既安全又環保。而且清洗機耗材跟傳統清洗方法相比簡直就是微乎其微。
等離子清洗機是將氣體電離產生等離子體對工件進行表面處理,無論是進行清洗還是表面活化,為達到佳的處理效果我們會選用不同的工藝氣體。
等離子體清洗技術目前已經被廣泛應用在金屬、聚合物和陶瓷表面的清洗處理,對混合電路和印刷電路板表面殘留金屬物的去除,生物醫學植入材料表面的消毒和清洗,硅晶片表面的清洗和考古文物的修復清洗等領域。